光氧催化設(shè)備的清洗工藝

光氧催化設(shè)備的清洗工藝

 

光催化氧化設(shè)備是一種應(yīng)用廣泛的凈化設(shè)備，其工業(yè)化生產(chǎn)也非常重要。為了保持設(shè)備的使用壽命，我們需要定期清潔和維護設(shè)備。我們來介紹一下設(shè)備清洗流程:

一、清洗流程:

1.切斷電源，打開檢修門。

2.取出需要清洗的設(shè)備，在苛性鈉水中浸泡半小時，然后用清水沖洗干凈。

3.用自然的方法干燥，保證設(shè)備干燥后可以放回光解設(shè)備，從而完成簡單的清洗工作。

二、清洗周期:

一般是3個月左右。清洗周期越短，氣味處理效率越高。如果長時間不清洗，會有很多安全隱患。

三、清潔用洗滌劑:

就是普通熱水可以用來喝燒堿。水溫***控制在50℃，因為在這個水溫下燒堿的處理量是一個比較***的水溫，所以需要清洗的設(shè)備可以在洗滌槽內(nèi)清洗。

四、正確的清洗可以減少內(nèi)部零件出現(xiàn)問題的可能性，提高使用效率，所以在實際操作中必須嚴格遵循正確的清洗流程和步驟，以保證清洗效果。

五、設(shè)備安裝后，廠家會為企業(yè)做清潔維護培訓(xùn)。因為清洗過程不難，一般人都能操作，這也是光氧催化設(shè)備被廣泛使用的因素之一。

光催化氧化設(shè)備以其******的工作方式和******的凈化效率在工業(yè)生產(chǎn)中得到廣泛應(yīng)用，但長期使用會給設(shè)備帶來***量的灰塵和麻煩，因此應(yīng)定期清洗，并了解具體的清洗過程。