光微波粉碎除臭原理

　　通過光微波控制C波段H管廢氣處置處罰燈，C波UV管253。7nm段（粉碎體系，粉碎鏈）及185nm激光管（殺菌體系，把裂解后的剖析成無毒無害的?。┕夂铣纱呋瘎ü庋鹾铣审w系，把有機廢氣完全剖析）轉變惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的鏈布局，使有機或無機高惡臭化合物鏈，在高能紫外線光束照射下，降解變化成低化合物，如CO2、H2O等。加臭氣、和本公司專利技能“二十七種催化涂層技能”舉行廢氣再次剖析和催化。利用高能高臭氧UV紫外線光束剖析氛圍中的氧孕育發生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不均衡以是需與氧聯合，進而孕育發生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及別的刺激性異味有吹糠見米的掃除結果?！捌叻N催化涂層技能”增強了-C波段紫外線照射數倍；增長了-C波段光段的反射，使-C波反射再次利用；次涂層質料屬于惰性材質，在-C波段紫外線的照射下逐步揮發催化劑舉行廢氣再次催化。徹底去除廢氣中有毒、有害、有味氣體。

　　接納-C波段光源將廢氣中的有毒有害的化學鏈裂解、斷鏈、氧化、剖析，將大鏈剖析成無毒無害的小，光與氣體完全沒有任何間隙，光速比氣體的速率高數倍，在光氧催化凈化器內-C段光源可以大概完全將有毒有害的有機廢氣完全剖析，氣體中的大部門有害物質被剖析、氧化為二氧化碳、水和礦物質，無第二次污染；消滅異味結果高達99%以上。

　　技能特點：無毒無害無任何副作用，完全逾越了傳統的氛圍凈化器，能在有人在場的情況中連續殺菌；在裂解時孕育發生淡淡的臭氧加上猛烈的紫外線能光譜地殺滅氛圍中的各種細菌，測試證明對軍團菌、金葡萄球菌、枯草桿菌、芽胞及自然菌殺滅率達90%以上，有用去除可吸取顆粒。

　　-C波段紫外線重要用往復除硫化氫、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、甲醇、丙酮、尿烷、甲硫醚、二硫化碳、三甲胺、二甲基醚、樹脂、等氣體及消毒滅菌。

　　一、高效除惡臭：能高效去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等重要污染物，以及種種惡臭味，凈化、脫臭服從最高可達99%以上，凈化、脫臭結果大大國度1993年頒發的惡臭污染物排放尺度（GB14554-93）．

　　二、無需添加任何物質：只必要設置相應的排風管道和排風動力，使產業廢氣通過本設置裝備部署舉行剖析凈化，無需添加任何物質到場化學反響。，

　　三、性強：可高濃度，大宇量，差別產業廢氣物質的凈化處置處罰，可每天24小時一連事情，運行穩固可靠。

　　五、運行本錢低：本設置裝備部署無任何機器行動，無噪音，無需專人辦理和一樣尋常，只需作定期，本設置裝備部署能耗低，（每處置處罰10000立方米/小時，僅耗電約2度電能），設置裝備部署風阻極低＜50pa，可節省大量排風動力能耗。

　　六、無需預處置處罰：產業廢氣無需舉行特別的預處置處罰，如加溫、加濕等，設置裝備部署事情情況溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在3-11之間均可正常事情。

　　七、設置裝備部署占地面積小，自重輕：得當于部署緊湊、園地狹窄等特別條件，設置裝備部署占地面積＜1平方米/處置處罰10000m3/h風量。

　　九、環保高科技專利產物：接納國際上開始進技能，通過專家及我公司工程技能職員恒久重復的試驗，開辟研制出的，具有完全自主知識產權的高科技環保凈化產物，可徹底剖析產業廢氣中有毒有害物質，并能到達完善的凈化結果，經剖析后的氣體，可完全到達無害化排放，絕不孕育發生二次污染，同時到達高效消鴆殺菌的作用。

　　煤油及自然氣的精粹廠、生物制藥廠、染料化工場、焦化廠、制革廠、紙漿廠、繅絲廠、金屬冶煉廠、食品廠、油脂廠、溶劑廠、釀造廠、飼料加工場、產業廢水處置處罰廠、柴油汽車（移動源）等。

　　除臭設備,生物除臭設備,等離子除臭設備,UV光電除臭設備,活性炭除臭設備專利技術，更節能，更環保